國產芯片崛起可期！中芯國際7nm工藝新突破，或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

導讀:

核心提示：不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距，臺積電目前工藝良率已經做到，中芯國際才剛開始做，和臺積電依然有兩代到三代的差距，而且滿足不了制造......國產芯片崛起可期！中芯國際7nm工藝新突破，或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

核心提示：不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距，臺積電目前工藝良率已經做到，中芯國際才剛開始做，和臺積電依然有兩代到三代的差距，而且滿足不了制造當前最高性能水…目前國內企業已經能夠設計出性能優秀的芯片，但是在芯片代工方面，依然是一個短板。相比臺積電、三星來說，其工藝已經逐漸成熟，目前正沖向下一代芯片制程。而國內芯片代工方面，只有中芯國際發展樂觀，不過此前由于在采購光刻機方面受挫，遲遲沒有收到荷蘭提供的光刻機，其制程也只能放緩。不過現在消息顯示，國產有信了，中芯國際不用光刻機也能搞定。目前中芯國際已開始發展更新一代的+、+工藝。根據中芯國際聯席梁孟松的說法，+工藝和相比，性能提升了，功耗降低了，邏輯面積縮小了，面積減少了。+基本上可以確定是級別的工藝了，因為芯片面積縮減意味著晶體管密度提升了倍，這超過了到工藝的進化水平。此外還有+工藝，區別在于性能及成本，+顯然是面向高性能的，成本也會增加。在這這兩個工藝方面，梁孟松表示+、+代工藝都不會使用工藝，等到設備就緒之后，+之后的工藝才會轉向光刻工藝。從綜合資料來看，這邊是中芯國際的芯片發展軌跡，這也與臺積電的工藝路線相差無幾。臺積電在工藝方面進化了三代，分別為低功耗的、高性能的、使用工藝的+。值得注意的是，同樣前兩代沒有用到光刻機。只有+使用工藝，也是目前臺積電的量產工藝。目前中芯國際已經實現了工藝量產，而且隨著其量產提速這也為其貢獻了的營收，能夠滿足國內的芯片生產，換句話說即便遇到意外情況，中芯國際量產之后國內也可以自己代工生產以上的芯片。根據產能來看，月產能將在今年月達到，月達到，月達到。其中基于改良的工藝也進入客戶導入階段了，該工藝相比晶體管尺寸進一步縮微。隨后中芯國際將跳過直接奔向工藝。不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距，臺積電目前工藝良率已經做到，中芯國際才剛開始做，和臺積電依然有兩代到三代的差距，而且滿足不了制造當前最高性能水平的處理。但至少中芯國際給我國芯片業帶來了一個好消息。當然，這種差距是可以縮小的，由于目前的芯片架構已經漸漸靠近摩爾定律的極限，在新的基礎物理理論和半導體制造技術突破之前，更精細的制造工藝會面臨更長的瓶頸期，這給了中國企業時間，它們可以趁此機會積累資金和經驗，趕上行業龍頭臺積電、三星。 聲明：該文觀點僅代表作者本人，本站為資訊信息發布平臺，僅提供信息展示服務，如果侵犯了您的權益，請與本站聯系，我們將立即刪除。

原標題：國產芯片崛起可期！中芯國際7nm工藝新突破，或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

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