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    國產芯片崛起可期!中芯國際7nm工藝新突破,或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

    作者:浩楓渡電商網來源:浩楓渡時間:2020-07-10 19:27

    導讀:

    核心提示:不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距,臺積電目前工藝良率已經做到,中芯國際才剛開始做,和臺積電依然有兩代到三代的差距,而且滿足不了制造......國產芯片崛起可期!中芯國際7nm工藝新突破,或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

    核心提示:不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距,臺積電目前工藝良率已經做到,中芯國際才剛開始做,和臺積電依然有兩代到三代的差距,而且滿足不了制造當前最高性能水…目前國內企業已經能夠設計出性能優秀的芯片,但是在芯片代工方面,依然是一個短板。相比臺積電、三星來說,其工藝已經逐漸成熟,目前正沖向下一代芯片制程。而國內芯片代工方面,只有中芯國際發展樂觀,不過此前由于在采購光刻機方面受挫,遲遲沒有收到荷蘭提供的光刻機,其制程也只能放緩。不過現在消息顯示,國產有信了,中芯國際不用光刻機也能搞定。目前中芯國際已開始發展更新一代的+、+工藝。根據中芯國際聯席梁孟松的說法,+工藝和相比,性能提升了,功耗降低了,邏輯面積縮小了,面積減少了。+基本上可以確定是級別的工藝了,因為芯片面積縮減意味著晶體管密度提升了倍,這超過了到工藝的進化水平。此外還有+工藝,區別在于性能及成本,+顯然是面向高性能的,成本也會增加。在這這兩個工藝方面,梁孟松表示+、+代工藝都不會使用工藝,等到設備就緒之后,+之后的工藝才會轉向光刻工藝。從綜合資料來看,這邊是中芯國際的芯片發展軌跡,這也與臺積電的工藝路線相差無幾。臺積電在工藝方面進化了三代,分別為低功耗的、高性能的、使用工藝的+。值得注意的是,同樣前兩代沒有用到光刻機。只有+使用工藝,也是目前臺積電的量產工藝。目前中芯國際已經實現了工藝量產,而且隨著其量產提速這也為其貢獻了的營收,能夠滿足國內的芯片生產,換句話說即便遇到意外情況,中芯國際量產之后國內也可以自己代工生產以上的芯片。根據產能來看,月產能將在今年月達到,月達到,月達到。其中基于改良的工藝也進入客戶導入階段了,該工藝相比晶體管尺寸進一步縮微。隨后中芯國際將跳過直接奔向工藝。不過工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在代的差距,臺積電目前工藝良率已經做到,中芯國際才剛開始做,和臺積電依然有兩代到三代的差距,而且滿足不了制造當前最高性能水平的處理。但至少中芯國際給我國芯片業帶來了一個好消息。當然,這種差距是可以縮小的,由于目前的芯片架構已經漸漸靠近摩爾定律的極限,在新的基礎物理理論和半導體制造技術突破之前,更精細的制造工藝會面臨更長的瓶頸期,這給了中國企業時間,它們可以趁此機會積累資金和經驗,趕上行業龍頭臺積電、三星。 聲明:該文觀點僅代表作者本人,本站為資訊信息發布平臺,僅提供信息展示服務,如果侵犯了您的權益,請與本站聯系,我們將立即刪除。

    原標題:國產芯片崛起可期!中芯國際7nm工藝新突破,或不依靠EUV光刻機【最新頭條】

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